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  • 半導體制造廢水
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    制造廢水過濾

     

    過程簡述

     

    半導體集成電路是指在半導體基板上,利用氧 化、蝕刻、擴散等方法,將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等), 進而達成預先設定好的電路功能。半導體的生產工藝要求高,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復雜工藝,生產半導體的過程會產生大量的廢水, 半導體廢水污染物種類多,成分復雜,通常包括多種重金屬廢水,有機廢水以及硅和氟廢水;同時半導體PCW系統的制程冷卻水須過濾處理以回用(見水處理應 用)。

     

    清洗工藝及廢水來源

     

    工藝

    清潔源

    容器

    清潔效果

    剝離光刻膠

    氧等離子體

    平板反應器

    刻蝕膠

    去聚合物

    硫酸:水=6:1

    溶液槽

    除去有機物

    去自然氧化層

    氟化氫:水<1:50

    溶液槽

    產生無氧表面

    旋轉甩干

    氮氣

    甩干機

    無任殘留物

    RCA1#(堿性)

    氫氧化銨:過氧化氫:水=1:1:1.5

    溶液槽

    除去表面顆粒

    RCA2#(堿性)

    氯化氫:過氧化氫:水=1:1:5

    溶液槽

    除去重金屬粒子

    DI清洗

    去離子水

    溶液槽

    除去清洗溶劑

     

    問題描述

     

     

    產品應用

     

     

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